電子廠潔凈室的除塵率要求主要取決于其潔凈度等級(如百級、千級、萬級、十萬級等)，而不同等級對空氣中顆粒物的容許濃度有嚴格規(guī)定。以下是關(guān)鍵標準及要求：
 

　　1. 潔凈度等級與顆粒物限制
 

　　- 百級潔凈室：每立方米空氣中≥0.5μm的粒子數(shù)≤3,500個，≥5μm的粒子數(shù)≤293個。
 

　　- 千級潔凈室：≥0.5μm的粒子數(shù)≤35,200個/m³，≥5μm的粒子數(shù)≤2,930個/m³。
 

　　- 萬級潔凈室：≥0.5μm的粒子數(shù)≤352,000個/m³，≥5μm的粒子數(shù)≤2,930個/m³。
 

　　- 十萬級潔凈室：≥0.5μm的粒子數(shù)≤3,500,000個/m³，≥5μm的粒子數(shù)≤20,000個/m³。
 

　　2. 除塵率要求
 

　　- 高效過濾器(HEPA/ULPA)：
 

　　潔凈室通常要求末端過濾器對≥0.3μm顆粒的過濾效率≥99.97%(HEPA)或≥99.999%(ULPA)，具體選擇取決于潔凈度等級。
 

　　- 整體系統(tǒng)效率：
 

　　通過初效、中效、高效三級過濾組合，綜合除塵率需確保達到對應潔凈度等級的顆粒物限值。例如，十萬級潔凈室的送風系統(tǒng)需將初始空氣中的顆粒物濃度降低至標準值的1/10,000以下。
 

　　3. 其他影響因素
 

　　- 氣流組織：單向流(層流)潔凈室的除塵效率高于非單向流(亂流)，需通過合理的氣流設(shè)計減少死角。
 

　　- 正壓控制：潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)的壓差需≥10Pa，防止外部污染物進入。
 

　　- 靜電控制：電子廠潔凈室需維持濕度40%-60%，以減少靜電吸附顆粒。
 

　　4. 實際應用建議
 

　　- 對于高精密電子制造(如半導體)，通常要求千級或更高潔凈度，除塵率需接近100%。
 

　　- 動態(tài)環(huán)境下(如人員操作時)，需通過增加換氣次數(shù)(如十萬級換氣15-20次/小時)維持除塵效果。
 

　　總結(jié)
 

　　電子廠潔凈室的除塵率并非固定百分比，而是通過過濾系統(tǒng)、氣流設(shè)計和環(huán)境控制共同實現(xiàn)對應潔凈度等級的顆粒物限值。具體需根據(jù)生產(chǎn)工藝要求(如集成電路制程需百級，普通封裝可接受萬級)選擇匹配的凈化方案。